Étude de la puissance de décharge plasma sur le pouvoir d'absorption d'humidité relative par des couches minces à partir d'HMDSO déposé par la technique PECVD

Abstract

L’étude de l’effet de la puissance de décharge plasma utilisée pour l’élaboration de couches minces d’Hexaméthyldisiloxane (HMDSO) pur dans un réacteur plasma basse fréquence par la technique PECVD sur leur pouvoir d’absorption de l’humidité a été suivie par le relevé de l’évolution de la réponse en courant et en impédance de capteurs élaborés avec ces couches minces et soumis à différents taux d’humidité relative RH% (entre 10% et 95%). L’augmentation de la puissance de décharge induit une augmentation de l’impédance des films élaborés et un élargissement de leur domaine d’insensibilité, (par conséquent à une diminution de leur pouvoir d’absorption de molécules d’eau). La caractérisation physico-chimique par spectroscopie FTIR a montré que l’augmentation de la puissance de décharge plasma induit une plus importante densification des films élaborés et ainsi une diminution des groupements silanols (Si-OH) incorporés dans les couches déposées. De plus, les courbes de sensibilités pour le cycle d’adsorption et de désorption étaient similaires présentant une faible hystérésis et une bonne propriété réversible de détection. Finalement, le temps de réponse et de recouvrement sont de l’ordre 8 et 34 s pour le capteur à base d’HMDSO, respectivement.