Etude préliminaire de stabilité de défauts ponctuels dans la surface de silicium

dc.contributor.authorMERZOUGUI, Aicha
dc.date.accessioned2019-02-17T10:06:13Z
dc.date.available2019-02-17T10:06:13Z
dc.date.issued2016-06-09
dc.description.abstractNous réalisons dans ce travail une étude préliminaire de stabilité de défauts ponctuels dans la surface de silicium en utilisant le programme VASP (Vienne Ab initio Simulation Package) Les résultats présentés dans ce travail peuvent servir de base à des travaux futurs sur l’étude des propriétés des matériaux à base de silicium. Abstracten_US
dc.identifier.urihttps://depot.univ-msila.dz/handle/123456789/7848
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversité Mohamed BOUDIAF de M'Silaen_US
dc.subjectsilicium, (DFT), Hartree-Focken_US
dc.titleEtude préliminaire de stabilité de défauts ponctuels dans la surface de siliciumen_US
dc.typeThesisen_US

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