Etude et caractérisation des couches minces à base d’hexaméthyldisiloxane(HMDSO) sensibles à l’humidité relative déposés par la technique (PECVD)

Abstract

Dans ce mèmoire, nous nous somme intéressé à l’étude de l’éffet de l’épaisseur des couches sensible à base d’HMDSO pur déposé par le technique PECVD dans un réacteur base fréquence (19 Khz) sur les caractéristiques essentielles du capteur telques : la sensibilité, la réversibilité et le temps de réponse. Les résultats obtenus montrent que le courant croît avec l’augmentation d’humoidité relative, d’une part. D’autre part, les valeurs de l’impédance du capteur dimuner avec la croissance du taux d’humidité relative. De plus, l’augmentation des épaisseurs de la couche sensible engendre une densification et par conséquent une diminution du pouvoir d’absorption. Autrement dit, la caractérisation physico-chimique des films élaborés par spectroscopie FTIR montre que l’augmentation de l’épaisseur induit une densification des films élaborés et une croissance des liaisons SiCH3 et SiH qui empêchent la formation des liaisons SiOH conduisant à un film hydrophobe et donc une diminution du pouvoir d’absorption d’humidité.